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November 18, 2025

カテゴリー接続: 陶器部品

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タグ:

#メカニカル・アームアルミナ・セラミック #吸い込み杯アルミナセラミック #Al2O3 アルミナセラミック

概要: 半導体ウェーハ処理用の高純度CVD/SSiCシリコンカーバイドトレイに多くの専門家が注目する理由を、この概要でご覧ください。過酷な産業用途向けに設計された、その卓越した機械的強度、熱安定性、寸法精度について学びましょう。

関連製品特性:

重量軽減と熱流最適化のために、マルチゾーン環状スロットで設計されています。
強化されたラジアルリブネットワークにより、機械的強度と回転安定性が向上しています。
高精度機械加工された表面は、半導体用途における平坦性と厚さの均一性を保証します。
集中マウントインターフェースにより、回転シャフトや自動システムへの安全な設置が可能になります。
外輪の構造補強により、振動耐性と周辺負荷安定性が向上します。
SSiC、RBSiC、アルミナセラミック、高強度金属など、複数の高性能材料で利用可能です。
半導体製造、LED製造、先端材料加工、精密機械に最適です。
様々な産業ニーズに対応するため、熱効率、構造的耐久性、プロセス安定性、およびカスタマイズ性を提供します。

FAQ:

SiCセラミックトレイとは何ですか？

SiCセラミックトレイは、半導体、LED、光学、真空プロセス製造において、ウェーハまたは基板を支持、搭載、および搬送するために設計された、高純度炭化ケイ素製の精密キャリアです。過酷な環境下でも、優れた熱安定性、機械的強度、および変形抵抗を提供します。
SiCトレイを使用することの利点は、石英、グラファイト、またはアルミニウムトレイと比較して何ですか？

SiCトレイは、1600～1800℃までの耐熱性、優れた熱伝導性、卓越した機械的強度、低い熱膨張性、高い耐食性、そして連続的な高負荷製造条件下での長寿命など、優れた性能上の利点を提供します。
SiCセラミックトレイは主にどのような用途に使用されますか？

SiCトレイは、半導体ウェーハハンドリング、LPCVD、PECVD、MOCVD熱処理、アニーリング、拡散、酸化、エピタキシープロセス、サファイアウェーハ/光学基板のローディング、高真空および高温環境、精密CMPまたは研磨治具プラットフォームで広く使用されています。

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