900nm 4インチLiNbO3のリチウム ニオブ酸塩の非常に薄いフィルムはシリコン基板で層になる

基本情報
起源の場所: 中国
ブランド名: ZMKJ
モデル番号: JZ-4INCH-LNOI
最小注文数量: 2pcs
価格: by case
パッケージの詳細: クリーン ルームの単一のウエファーの容器
受渡し時間: 30days
支払条件: T/T、ウェスタン・ユニオン、Paypal
供給の能力: 10PCS/Month
材料: シリコン基板のLNの層 層の厚さ: 300-1000nm
オリエンテーション: X-CUT 適用: 高性能、音響表面フィルタ
適用2: 5G saw/BAW装置 RA: 0.5nm
分離の層: Sio2 分離の層の厚さ: 300-4000nm
基質: 525um サイズ: 4inch
ハイライト:

LiNbO3リチウム ニオブ酸塩のウエファー

,

4インチのリチウム ニオブ酸塩のウエファー

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絶縁体の900nmリチウム ニオブ酸塩

 

 

 

4inch 6inchシリコンの薄片の300-900のnmのリチウム ニオブ酸塩LiNbO3 LNの薄膜(LNOI)

 
 

適用の方向:

 

·電気光学変調器·遅延線

·電気光学Qスイッチ·X-BAR

·段階の変調器装置·非線形光学

·Ferroelectricメモリ素子、記憶装置

 

独特の指定
300-900のnmのリチウム ニオブ酸塩の薄膜(LNOI)
上の機能層
直径 3、4、(6)インチ オリエンテーション X、Z、Y等。
材料 LiNbO3 厚さ 300-900 nm
添加される(任意) MgO    
分離の層
材料 SiO2 厚さ 1000-4000 nm
基質
材料 Si、LN、水晶、石英ガラス等。
厚さ 400-500 μm
任意電極の層
材料 PtのAu、Cr 厚さ 100-400 nm
構造 SiO2分離の層の上またはの下で
 

 

関連のカスタマイズされた薄膜

 
カスタマイズされたリチウム ニオブ酸塩及びリチウムTantalateの薄膜
最上層の細部 基質の細部 最上層の薄膜の細部
多層状構造 模造された電極及び導波管 別の物質的(SiO2/Si、Si、サファイア、水晶等) PPLN 特別なサイズ 電極(Au、Pt、Cr、Al等) オリエンテーション(バルク ウエファーと同じように) 添加されて(MgO、Fe、えー、Tm等)
100-1000 nm LiNbO3
100-1500 nm LiTaO3  

5-50 um

LiNbO3

       

5-50 um

LiTaO3

       
 

 

900nm 4インチLiNbO3のリチウム ニオブ酸塩の非常に薄いフィルムはシリコン基板で層になる 0

 

FAQ –
Q:何兵站学および費用を供給できるか。
(1)私達はDHL、Federal Express、TNT、UPS、EMS、SFおよび等を受け入れる。
(2)あなた自身の明白な数があれば、大きい。
そうでなかったら、私達は渡すために助けることができる。Freight=USD25.0 (最初の重量) + USD12.0/kg
Q:支払う方法か。
Alibabaおよび等のT/T、Paypal、西連合、MoneyGram、安全な支払および貿易保証…
Q:MOQは何であるか。
(1)目録のための、MOQは5pcsである。
(2)カスタマイズされたプロダクトのための、MOQは5pcs-20pcsである。
それは量および技術によって決まる
Q:材料のための点検報告があるか。
私達は私達のプロダクトのための詳細レポートを供給してもいい。

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