クォーツ焦点リング半導体プラズマエッチング機器で使用される重要な消費部品である.通常は高純度溶融クォーツから製造される.プラズマ分布を制御し,ウエファー表面全体に一貫したエッチング性能を維持する上で重要な役割を果たします.
主な機能はプラズマを絞り込み,特にウエファの辺を導くことであり,均質なエッチ速度と精密な重要な寸法制御を達成するのに役立ちます.
プラズマエッチングでは,クォーツ焦点リングはいくつかの重要な機能を果たします.
焦点リングの幾何学と電解特性により,電場とプラズマ分布がウェーファー縁の近くに影響を及ぼします.リングは,全体にわたって一貫したエッチ率と重要な寸法を維持するのに役立ちます..
半導体装置が縮小し プロセスの許容量が要求されるにつれて これはますます重要になります
焦点リングは,エネルギー的なプラズマ,反応性ガス,イオン爆撃への直接的曝露を吸収する交換可能な保護部品として機能します.
電気静止チャック (ESC) などの基礎部品を遮断することで,焦点リングは機器の磨きを軽減し,部品の使用寿命を延長し,保守コストを下げることに役立ちます.
高純度溶融クォーツには,金属性不純度が非常に少ないため,プラズマ処理中に汚染される危険性が軽減されます.
クォーツ焦点リングは,ウェーファー周辺のプラズマ相互作用を制御し,重要な領域での望ましくない堆積やポリマー蓄積を制限するのに役立ちます.よりクリーンなプロセス環境に貢献しますウェファーの質が向上し,生産生産量が安定した.
焦点リングは,クォーツ,アルミニウム,シリコンカービード,イトリアベースの陶器など,いくつかの先進的な材料から製造することができます.溶け た 石英 は,純度 が 均衡 し て いる 組み合わせ の ため,現在 も 広く 用い られ て い ます熱安定性,介電性,プロセス互換性
半導体級の溶融クォーツは,純度99.998%以上を達成することができる.非常に低金属不純度含有量は,ウェーファー汚染のリスクを最小限に抑えるのに役立ちます.半導体装置の性能と生産出力を維持するために不可欠である.
溶融クォーツは,多くの半導体プロセス環境で良好な安定性を提供します.その実際の侵食率は,プラズマ化学,RFパワー,室環境および動作温度に依存します.
フッ素を含むプラズマ環境では,クォーツは徐々に消費され,したがって交換可能なプロセス消費物として扱わなければならない.
溶融クォーツは高温や急速な温度変化に耐える熱膨張 の 極めて 低い 係数 は,繰り返し 熱 と 冷却 サイクル の 間 に 寸法 の 安定 を 維持 する こと に 役立ち ます.
介電常数が約3で8溶融クォーツは,ウエファー縁の周りの電場分布に影響を与える.これはプラズマの振る舞いを制御し,エッチングの均一性を改善するのに適している.
クォーツ焦点リングは,その寸法,プロファイル,表面状態がプラズマ分布とプロセス安定性に直接影響を与えるため,高度な精度加工を必要とする.
典型的な製造プロセスは以下のとおりである.
設備のモデルとプロセス要件に応じて,重要な寸法許容量は ±0.02 mmまたはそれ以上に達する可能性があります.精密な表面も極低の粗さレベルまで磨くことができます.
クォーツ焦点リングは,介電蚀,導体蚀,その他の乾燥蚀加工を含む半導体ウェーファー製造のためのプラズマエッチングシステムで広く使用されています.
MXP+やCenturaなどの選択された応用材料システムを含む様々なエッチングプラットフォームのカスタマイズされた交換部品として製造することができます.機器の互換性は,元の図面に従って常に確認されるべきです.部品番号,コンポーネーションと操作条件
マテリアルセミは,半導体処理機器のための高純度クォーツ焦点リングおよび他の精密クォーツ部品をカスタマイズしています.
カスタマイゼーションは,次のとおり提供できます:
精密加工,厳格な品質管理,高純度素材選択により,クォーツ焦点リングは,要求の高いプラズマエッチングアプリケーションで安定した性能を提供します.
クォーツ焦点リング半導体プラズマエッチング機器で使用される重要な消費部品である.通常は高純度溶融クォーツから製造される.プラズマ分布を制御し,ウエファー表面全体に一貫したエッチング性能を維持する上で重要な役割を果たします.
主な機能はプラズマを絞り込み,特にウエファの辺を導くことであり,均質なエッチ速度と精密な重要な寸法制御を達成するのに役立ちます.
プラズマエッチングでは,クォーツ焦点リングはいくつかの重要な機能を果たします.
焦点リングの幾何学と電解特性により,電場とプラズマ分布がウェーファー縁の近くに影響を及ぼします.リングは,全体にわたって一貫したエッチ率と重要な寸法を維持するのに役立ちます..
半導体装置が縮小し プロセスの許容量が要求されるにつれて これはますます重要になります
焦点リングは,エネルギー的なプラズマ,反応性ガス,イオン爆撃への直接的曝露を吸収する交換可能な保護部品として機能します.
電気静止チャック (ESC) などの基礎部品を遮断することで,焦点リングは機器の磨きを軽減し,部品の使用寿命を延長し,保守コストを下げることに役立ちます.
高純度溶融クォーツには,金属性不純度が非常に少ないため,プラズマ処理中に汚染される危険性が軽減されます.
クォーツ焦点リングは,ウェーファー周辺のプラズマ相互作用を制御し,重要な領域での望ましくない堆積やポリマー蓄積を制限するのに役立ちます.よりクリーンなプロセス環境に貢献しますウェファーの質が向上し,生産生産量が安定した.
焦点リングは,クォーツ,アルミニウム,シリコンカービード,イトリアベースの陶器など,いくつかの先進的な材料から製造することができます.溶け た 石英 は,純度 が 均衡 し て いる 組み合わせ の ため,現在 も 広く 用い られ て い ます熱安定性,介電性,プロセス互換性
半導体級の溶融クォーツは,純度99.998%以上を達成することができる.非常に低金属不純度含有量は,ウェーファー汚染のリスクを最小限に抑えるのに役立ちます.半導体装置の性能と生産出力を維持するために不可欠である.
溶融クォーツは,多くの半導体プロセス環境で良好な安定性を提供します.その実際の侵食率は,プラズマ化学,RFパワー,室環境および動作温度に依存します.
フッ素を含むプラズマ環境では,クォーツは徐々に消費され,したがって交換可能なプロセス消費物として扱わなければならない.
溶融クォーツは高温や急速な温度変化に耐える熱膨張 の 極めて 低い 係数 は,繰り返し 熱 と 冷却 サイクル の 間 に 寸法 の 安定 を 維持 する こと に 役立ち ます.
介電常数が約3で8溶融クォーツは,ウエファー縁の周りの電場分布に影響を与える.これはプラズマの振る舞いを制御し,エッチングの均一性を改善するのに適している.
クォーツ焦点リングは,その寸法,プロファイル,表面状態がプラズマ分布とプロセス安定性に直接影響を与えるため,高度な精度加工を必要とする.
典型的な製造プロセスは以下のとおりである.
設備のモデルとプロセス要件に応じて,重要な寸法許容量は ±0.02 mmまたはそれ以上に達する可能性があります.精密な表面も極低の粗さレベルまで磨くことができます.
クォーツ焦点リングは,介電蚀,導体蚀,その他の乾燥蚀加工を含む半導体ウェーファー製造のためのプラズマエッチングシステムで広く使用されています.
MXP+やCenturaなどの選択された応用材料システムを含む様々なエッチングプラットフォームのカスタマイズされた交換部品として製造することができます.機器の互換性は,元の図面に従って常に確認されるべきです.部品番号,コンポーネーションと操作条件
マテリアルセミは,半導体処理機器のための高純度クォーツ焦点リングおよび他の精密クォーツ部品をカスタマイズしています.
カスタマイゼーションは,次のとおり提供できます:
精密加工,厳格な品質管理,高純度素材選択により,クォーツ焦点リングは,要求の高いプラズマエッチングアプリケーションで安定した性能を提供します.
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