イオンビーム磨き機
原子レベル精度 · 接触のない処理 · 超滑らかな表面

イオンビーム磨き機の製品概要
 

CNC イオンビームフィギュアリング/ポーリングマシンは,原理で動作しますイオンスプッター離子源がプラズマビームを生成し 離子ビームが加速して 原子レベルの物質を除去するために 作業部件表面を爆撃します超精密な光学部品の製造を可能にする.

この技術によって接触のない加工機械的ストレスや地下損傷から自由で,天文学,航空宇宙,半導体,科学研究における高精度光学に最適です.

作業原理イオンビーム磨き機

• イオン生成静止ガス (例えばアルゴン) が真空室に導入され,電解電場によって電離されます.

• イオン加速とビーム形成イオンは数百から数千の電子ボルト (eV) に加速し,光学を焦点化することで安定したビームスポットに形作られます

• 物質の除去化学反応なしに表面の原子を物理的に噴射します

• エラー測定と経路計画表面図の誤差は干渉測定を用いて測定され,その後,除去関数はビーム滞在時間を計算し,処理経路を生成するために使用されます.

• 閉ループの修正RMS/PVの目標を達成するまで処理と測定サイクルが繰り返されます.

設備の特徴イオンビーム磨き機

• 接触のない加工表面の形をすべて扱うことができる

• 安定した除去率図の修正精度はナノメートル以下

• 地下には損傷はない光学的な整合性を保ちます

• 高度な一貫性変異する硬さのある材料の最小変動

• 低周波/中周波の修正平均高周波のエラー発生がない

• 低維持費停電時間が最小限で長時間連続運転

設備の処理能力イオンビーム磨き機

使用可能な表面:

• 単純な光学部品:平面,球体,プリズム

• 複雑な光学部品:対称/対称でないアスフィア,軸外アスフィア,円筒状の表面

• 特殊光学部品:超薄光学,スラット光学,半球光学,コンフォーム光学,相プレート,フリーフォーム表面,その他のカスタム形

入手 できる 資料:

• 一般的な光学ガラス:クォーツ,マイクロ結晶,K9など

• 赤外線光学:シリコン,ゲルマニウムなど

• 金属:アルミニウム,ステンレス鋼,チタン合金など

• 結晶材料:YAG,単結晶シリコンカービッドなど

• 他の硬/脆い材料:シリコンカービッドなど

表面質/精度:

• PV < 10 nm

• RMS ≤ 0.5 nm

製品 の 利点イオンビーム磨き機

• 原子レベルでの除去精度要求の高い光学システムに超滑らかな表面を可能にします

• 汎用的な形状互換性プレート光学から複雑なフリーフォームへ

• 材料の広範囲な適応性精密結晶から硬い陶器や金属まで

• 大開口能力Φ4000mmまでの光学処理

• 長期安定運転掃除室のメンテナンスなしで3~5週間稼働します

イオンビーム磨き機の典型的なモデル

• IBF350 / IBF750 / IBF1000 / IBF1600 / IBF2000 / IBF4000

• 移動軸: 3軸 / 5軸

• 作業部品の最大サイズ: Φ4000mmまで

ケース1 標準の平面鏡

• 工件:D630mmクォーツフラット

• 結果 PV 46.4 nm RMS 4.63 nm

わかった

ケース2 X線反射鏡

• 工品: 150 × 30 mm シリコンフラット

• 結果: PV 8.3 nm; RMS 0.379 nm; 傾き 0.13 μrad

わかった

ケース3 軸外鏡

• 工件:D326mm 軸外の地面鏡

• 結果: PV 35.9 nm; RMS 3.9 nm

イオンビーム磨き機の応用分野

• 天文学光学大型望遠鏡の主要/次要鏡

• 宇宙光学衛星による遠隔検出,深空画像

• 高功率レーザーシステムICF光学,ビーム形状

• 半導体光学石墨鏡と鏡

• 科学機器X線/中性子鏡,計測標準部品

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