詳細情報 |
|||
材料: | SiCの単結晶4h-N | 等級: | 生産/研究/模造の等級 |
---|---|---|---|
Thicnkss: | 0.5mm | Suraface: | 磨かれる |
直径: | 8inch | 色: | 緑 |
タイプ: | nタイプ窒素 | 弓: | -25~25/-45~45/-65~65 |
印が付いている: | ノッチの権利 | ||
ハイライト: | MOS装置SICのウエファー,Dia200mmの炭化ケイ素のウエファー,4H-N炭化ケイ素の基質 |
製品の説明
インゴット成長の高い純度4のための2inch 4/6inch dia200mm sicの種のウエファー1mmの厚さ6 8インチの伝導性の半絶縁材SiCの単結晶のウエファー
種の成長の種結晶4inch 6inchの種sicのウエファー1.0mmの厚さ4h-N SICの炭化ケイ素のウエファーのためのカスタマイズされたsize/2inch/3inch/4inch/6inch 6H-N/4H-SEMI/4H-N SICのインゴット/高い純度4H-N 4inch 6inch dia 150mmの炭化ケイ素の単結晶(sic)の基質のウエファーのCustomziedようにカットのsicのウエファーの生産4inchの等級4H-N 1.5mm SICのウエファー
製品の説明
製品名
|
SIC
|
Polytype
|
4H
|
表面のオリエンテーションのオン軸線
|
0001
|
off-axis表面のオリエンテーション
|
0± 0.2°
|
FWHM
|
≤45arcsec
|
タイプ
|
HPSI
|
抵抗
|
≥1E9ohm·cm
|
直径
|
99.5~100mm
|
厚さ
|
500±25μm
|
第一次平らなオリエンテーション
|
[1-100の] ± 5°
|
第一次平らな長さ
|
32.5± 1.5mm
|
二次下向き姿勢
|
第一次平らな± 5°の上向きケイ素からの90° CW
|
二次平らな長さ
|
18± 1.5mm
|
TTV
|
≤5μm
|
LTV
|
≤2μm (5mm*5mm)
|
弓
|
-15μm~15μm
|
ゆがみ
|
≤20μm
|
(AFM)前部(Si表面) Roughn
|
Ra≤0.2nm (5μm*5μm)
|
Micropipe密度
|
≤1ea/cm2
|
カーボン密度
|
≤1ea/cm2
|
六角形の空間
|
どれも
|
金属の不純物
|
≤5E12atoms/cm2
|
前部
|
Si
|
表面の終わり
|
CMPのSi表面CMP
|
粒子
|
size≥0.3μm)
|
傷
|
≤Diameter (累積長さ)
|
オレンジの皮/ピット/汚れ/筋入り/ひび/contaminati
|
どれも
|
端の破片/刻み目/ひび/六角形の版
|
どれも
|
Polytype区域
|
どれも
|
前部レーザーの印
|
どれも
|
背部終わり
|
C表面CMP
|
傷
|
≤2*Diameter (累積長さ)
|
背部欠陥(端の破片/刻み目)
|
どれも
|
背部荒さ
|
Ra≤0.2nm (5μm*5μm)
|
背部レーザーの印
|
1mm (トップ エッジから)
|
端
|
小さな溝
|
包装
|
内部袋は窒素で満ちて、外袋は掃除機をかけられる。
|
包装
|
epi準備ができた複数のウエファー カセット。
|
SiCの適用
SiCの単結晶に高周波、高い発電、高温およびradiation-resistant電子デバイスの準備のための高い熱伝導性、高い飽和させた電子移動度、強い電圧故障の抵抗、等、適したのような多くの優秀な特性が、ある。
1--炭化ケイ素のウエファーはショットキー ダイオード、金属酸化膜半導体の電界効果トランジスタの生産で主に使用される、
接合型電界効果トランジスタ、両極バイポーラ トランジスタ、サイリスタ、turn-offサイリスタおよび絶縁されたゲート
トランジスター。
2--SiC力MOSFET装置に理想的なゲートの抵抗、高速転換の性能が、低いオン抵抗および安定性が高いある。それは300V以下力装置の分野の優先する装置である。10kVの妨害電圧の炭化ケイ素MOSFETが首尾よく開発されたレポートがある。研究者はSiCのMOSFETsが3kV - 5kVの分野の有利な位置を占めることを信じる。
3--SiC力MOSFET装置に理想的なゲートの抵抗、高速転換の性能が、低いオン抵抗および安定性が高いある。それは300V以下力装置の分野の優先する装置である。10kVの妨害電圧の炭化ケイ素MOSFETが首尾よく開発されたレポートがある。研究者はSiCのMOSFETsが3kV - 5kVの分野の有利な位置を占めることを信じる。
プロダクト表示
私達の在庫のSiC ApplicationCatalohueの共通のサイズ
4H-Nタイプ/高い純度SiCのウエファー/インゴット 2インチ4H NタイプSiCのウエファー/インゴット
3インチ4H NタイプSiCのウエファー 4インチ4H NタイプSiCのウエファー/インゴット 6インチ4H NタイプSiCのウエファー/インゴット |
4HのSemi-insulating/高い純度SiCのウエファー 2インチ4H Semi-insulating SiCのウエファー
3インチ4H Semi-insulating SiCのウエファー 4インチ4H Semi-insulating SiCのウエファー 6インチ4H Semi-insulating SiCのウエファー |
6H NタイプSiCのウエファー
2インチ6H NタイプSiCのウエファー/インゴット |
2-6inchのためのカスタマイズされたサイズ
|
私達はウエファー、基質およびカスタマイズされた光学ガラスの部品にいろいろな材料を処理することを専門にする。電子工学、光学、光電子工学および他の多くの分野で広く利用された部品。私達はまた多くの国内および海外大学、研究所および会社と、ずっとR & Dのプロジェクトにカスタマイズされた製品とサービスを提供するために密接に働いている。
それは私達のよい評判によってすべての私達の顧客とのよい協同関係を維持する私達の視野である。
Q:船積みおよび費用の方法は何であるか。
(1)私達はDHL、Federal Express、TNT、UPS、EMS、SFおよび等を受け入れる。
(2)あなた自身の明白な記述があれば、大きい。
Q:支払う方法か。
(1) T/T、PayPalの西連合、MoneyGram
Alibabaおよび等の保証の支払。
(2)銀行料金:西Union≤USD1000.00)、
T/T -:t/tによる1000usdに、
Q:何が時間を提供するためにであるか。
(1)目録のために:受渡し時間は5仕事日である。
(2)受渡し時間はカスタマイズされたプロダクトのための7から25仕事日である。量に従って。
Q:私は私の必要性に基づいてプロダクトをカスタマイズしてもいいか。
はい、私達はあなたの必要性に基づいてあなたの光学部品のための材料、指定および光学コーティングをカスタマイズしてもいい。