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詳細情報 |
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| 材料: | シリコン基板のLiNbO3層 | 層の厚さ: | 300-1000nm |
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| オリエンテーション: | X-CUT | 適用2: | 5G saw/BAW装置 |
| RA: | 0.5nm | 分離の層: | Sio2 |
| 基質: | 525um | サイズ: | 4inch 6inch 8inch |
| ハイライト: | 6インチLiNbO3のウエファー,BAW LiNbO3のウエファー,ZカットのLiTaO3ウエファー |
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製品の説明
6鋸/BAWの塗布のために分極されるインチLiTaO3 LiNbO3のウエファーの黒ZカットのY 128度の
リチウム ニオブ酸塩（LiNbO3）の単結晶は50%まで帯域幅の鋸装置を製造するのに使用することができる低い伝播の損失である、および高い電気機械の連結係数のferroelectric水晶。リチウム ニオブ酸塩の単結晶材料の音響の表面波の特性はオリエンテーションおよび伝播の方向と密接に関連している。異なった切削角および伝播の方向に従って、鋸の伝播の速度は3400~4000m/sである、電気機械の連結係数は0%~5.6%であり、温度係数は-1.1~-95.6である（10^-6/℃）。
リチウムtantalate （LiTaO3）に圧電気の、電気光学および非線形光学特徴および紫外線から赤外線に行く広い透明物の範囲がある。LiTaO3ウエファーが滑らかな表面良質と作用するためにだったことは好ましい。化学に機械に磨くことが（CMP）集積回路（IC）をplanarizeまたは基質の高い表面質を得るのに使用されていた。このペーパーはLiTaO3 CMPのためのスラリーの添加物としてクエン酸の効果を調査する。ウエファーの荒さは原子力の顕微鏡検査（AFM、XE-100）によって磨くことの後で測定された。添加物としてクエン酸を含んでいるスラリーに添加物なしでスラリーより高い材料の取り外しの率および摩擦力がある。磨くことの後で、LiTaO3ウエファーの表面の粗さはRAの1.7Aに減らすことができる。
独特の指定
| 水晶Sturucture | 、空間群R3c Trigonalのポイント グループ3m |
| 融点 | 1253℃ |
| Mohsの硬度 | 5 |
| 密度（g/cm3） | 4.64 |
| 潮解 | どれも |
| 光学同質性 | ~5x10-5/cm |
| 透明物の範囲 | 420-5200nm |
| 吸収係数 | ~0.1%/cm @1064nm |
屈折率 | ne=2.146のno= 2.220@1300nm |
| 熱拡張係数（25℃で） | //a、2.0x10-6/K |
| 熱伝導性係数 | 25℃の38 W/m/K |
| 熱光学係数 | 1.4μmのdno/dT=-0.874 X 10-6/K |
Sellmeierの同等化 | no2=4.9048+0.11768/（λ2-0.04750） - 0.027169λ2 |
| 材料 | 3つ4つ6つはLTのウエファー見たり/光学等級 | ||
| オリエンテーション | X112°/Y28°/Y36°/Y42°/YZまたはカスタマイズされる | ||
| キュリーの臨時雇用者 | 605°C±3°C | ||
| と添加される | Fe | ||
| 単一の範囲 | 完了された分極/減らされる | ||
| オリエンテーション | 36°Y、42°Y、X-112°Y、Y、Z | ||
| 直径 | 76.2±0.2mm | 100±0.2mm | 150±0.2mm |
| 第一次平たい箱 | 22±1mm | 32±1mm | 47.5mm、57.5mmは、ノッチを付ける |
| 厚さ | 0.07mm~1.0mm | 0.1mm~1.0mm | 0.35mm~1.0mm |
| 表面の終わり | 単一/二重側面の光沢/二重側面は重なり合った | ||
| TTV | < 1=""> | ||
| 弓 | ± （20µm ~40um） | ||
| ゆがみ | <> | ||
| LTV （5mmx5mm） | <1> | ||
| PLTV （<0> | 除かれる2mmの端との≥98% （5mm*5mm） | ||
| 磨かれた側面のRA | 荒さのRA<> | ||
| 裏側の規準 | 荒さのRA:0.5-1.0µm、GC#1000 | ||
| 傷及び発掘（S/D） | 20/10、40/20、60/40 | ||
| 端のプロフィール | 半CのM1.2@with GC800# .regularのCompl'tはタイプした | ||
| ひび、鋸の印、汚れ | どれも | ||
LiTaO3ウエファーおよびLiNbO3の表示
