LNOI（リチウムニオブ酸塩オンインシュレータ）ウェーハは、高い非線形光学係数や強力な機械的特性など、その優れた特性により、幅広い高度な用途に利用されています。集積光学系では、LNOIウェーハは、集積回路で光を操作するために不可欠な変調器、導波路、共振器などのフォトニックデバイスの作成に不可欠です。電気通信では、LNOIウェーハは、光ファイバーネットワークでの高速データ伝送を可能にする光変調器に広く使用されています。量子コンピューティングの分野では、LNOIウェーハは、量子鍵配送（QKD）と安全な通信に不可欠な、もつれ光子対の生成において重要な役割を果たしています。さらに、LNOIウェーハは、環境モニタリング、医療診断、および産業プロセス用の高感度な光学および音響センサーを作成するために使用される、さまざまなセンサーアプリケーションで使用されています。これらの多様なアプリケーションにより、LNOIウェーハは、複数の分野にわたる次世代技術の開発における重要な材料となっています。
FAQ のLNOIウェーハ
Q：LNOIとは何ですか？
A：LNOIは、リチウムニオブ酸塩オンインシュレータの略です。これは、シリコンやその他の絶縁材料などの絶縁基板に結合された薄いリチウムニオブ酸塩（LiNbO₃）層を特徴とするウェーハの一種を指します。LNOIウェーハは、リチウムニオブ酸塩の優れた光学、圧電、および焦電特性を保持しており、さまざまなフォトニック、電気通信、および量子技術での使用に最適です。
Q：LNOIウェーハの主な用途は何ですか？
A：LNOIウェーハは、フォトニックデバイス用の集積光学系、電気通信における光変調器、量子コンピューティングにおけるもつれ光子の生成、環境モニタリング、医療診断、および産業試験における光学および音響測定用のセンサーなど、さまざまな用途で使用されています。
Q：LNOIウェーハはどのように製造されますか？
A：LNOIウェーハの製造には、イオン注入、リチウムニオブ酸塩層の基板（通常はシリコン）への結合、分離のためのアニーリング、および滑らかで高品質の表面を実現するための化学機械研磨（CMP）など、いくつかのステップが含まれます。イオン注入は、バルクのリチウムニオブ酸塩結晶から分離できる薄く壊れやすい層を作成し、基板上に薄く高品質のリチウムニオブ酸塩膜を残します。
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