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High-Purity CVD/SSiC Silicon Carbide Tray for Semiconductor Wafer Processing with 99.9% Purity and Up to 1600°C Resistance

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2025-11-18

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#メカニカル・アームアルミナ・セラミック #吸い込み杯アルミナセラミック #Al2O3 アルミナセラミック

1. Overview This precision radial-structured process carrier tray is an advanced industrial component engineered for applications that require exceptional mechanical strength, thermal stability, and ... もっと眺め

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High-Purity CVD/SSiC Silicon Carbide Tray for Semiconductor Wafer Processing with 99.9% Purity and Up to 1600°C Resistance

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